苏大维格光刻机和asml光刻机区别 苏大维格光电科技有限公司怎么样

苏大维格光刻机和ASML光刻机区别

1. ASML光刻机制造难度极高

ASML光刻机是芯片制造光刻环节的核心设备，由全球近800家供应商的数十万个零件组成。其技术含量和价值含量极高，具有极高的难度。

2. 苏大维格光刻机技术相对欠缺

苏大维格光刻机技术含量远远不够，受限于激光波长，无法满足高端半导体的需求。

3. 苏大维格公司资质与研发实力

苏大维格是首批获得认证的***高新技术企业之一，一直为上海微电子提供部件。公司自己也在研发光刻机，其研发的激光直写光刻机已经取得商业应用。

4. 苏大维格微纳制造技术

苏大维格的微纳制造技术指精度在微米级别，尽管在芯片领域取得巨大成就，但其核心微纳制造技术未来所引领的超材料时代鲜为人知。

5. 直写光刻与投影光刻技术

当前产业中分工明确，投影光刻具有更高的线宽分辨率、精度和生产效率。虽然直写光刻技术还不能大规模制造需求，但在电路板行业有重要应用。

6. ASML 在光刻机市场的地位

ASML是唯一一家能够生产极紫外光刻的企业，在整个半导体行业拥有话语权，其技术领先、市场地位稳固。

7. 苏大维格光刻机产品

苏大维格澄清公司出货的光刻机为激光直写光刻机，而非ASML的EUV掩模光刻机。公司产品更应被描述为"光刻设备"，而非"光刻机"。

8. 清溢光电的发展状况

清溢光电在光刻机市场中具有一定地位，其营业收入在逐年增长，是行业中的龙头企业。